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반도체 산업 장비 MDLB-MC200 포토마스크 클리너

MDLB-MC200

포토마스크 청소기

MASK.jpg

11.jpg

 

청소 장치:

청소 챔버는 부식 방지 재료로 처리되어 있으며, 표면이 매끄럽고 청소가 용이합니다. 내부 공간의 바닥에는 중력 이용 폐수 배출구가 있어 폐수가 공장의 폐수 배출 파이프라인으로 배출될 수 있습니다. 내부 공간 안에 흡입구가 있어腔내 대기를 즉시 추출할 수 있습니다. 3개의 자동 스윙 암이 장착되어 자동 세척을 실현할 수 있습니다.

 

구성 매개변수 표:

아니요.

프로젝트

제품 사양

비고

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

장비 개요

장치 이름: 포토마스크 클리너

 

장비 모델: MDLB-MC200

 

전체 크기 (약): 1300mm (W) * 1000mm (D) * 1950mm (H)

 

전체 기계 무게 (약): 300KG

 

작업대 높이: 900 ± 50mm

 

기판 크기 사양: 2/4/5/6/8 인치 정사각형 마스크 플레이트에 적합

 

공정 흐름: 수작업 웨이퍼 배치 → 청소 (브러시, 세정액 → 고압 물 → 메가소닉 물 → 이온 교환수 → 질소 가스 건조) → 수작업 웨이퍼 제거

 

장비 유형: 반자동, 수동 로딩 및 언로딩

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

장비 구조

외피: 스테인레스 스틸, 매끄러운 표면, 내부식성, 청소가 용이함

 

세척실: PP, 매끄러운 표면, 내부식성, 청소가 용이함

 

파이프라인: PU/PFA 파이프 사용

 

작업 조명: 방부 처리된 황색 빛 조명

 

문 개방 방식: 이중 문, 문 개방 경보 기능 포함

 

터치 스크린: 10인치 풀컬러 터치 스크린 * 1개

 

FFU: 100등급

 

누수 방지 바닥 지지대: 가능

 

 

 

3

 

 

고정밀 서보 모터

수량: 1

 

속도: -3000~3000rpm

공회전

주축 회전 최대 가속도: 3000rpm/s

공회전

속도 정확도: ± 1rpm (50rpm~3000rpm)

 

속도 해상도: 1rpm

 

 

4

자동 스윙 암

수량: 3

 

스윙 암 속도: 1~30 °/S

 

 

 

 

 

 

 

 

5

 

 

 

 

 

세척 유닛

세척 스윙 암: 이온화된 물 1 채널, 질소 가스 1 채널

메가소닉 암: 1 메가소닉, 1 고압수

브러시 암: 1 브러시, 1 물, 1 세정액

 

세정 방식: 자동 세정

 

이온교환수 흡입 기능: 가능

 

역세척 (이온교환수): 1 통로

 

공급 방식: 세정액: 다이아프램펌프

이온교환수: 공장에서 직접 공급

 

액위 검출 기능 있는 압력 탱크

 

 

 

6

 

브러시 닦기

수량: 1개 (자체 세척 기능 포함)

 

속도: 최대 1000rpm, 조절 가능한 속도

 

높이 수동으로 조절 가능

 

 

 

 

7

 

 

로드 트레이

수량: 5

 

재질: PPS+스테인레스 강

 

크기: 2/4/5/6/8 인치 사각 마스크 플레이트에 적합

 

기판 고정 방식: 발톱 고정 방식

 

 

 

 

8

 

 

제어 시스템

제어 시스템: PLC 제어 사용

 

프로그램: 100그룹, 각 그룹은 100단계로 구성되며 최대 단일 단계 시간은 3000.0초

해상도: 0.1S

 

프로그램을 저장, 호출, 수정 및 삭제할 수 있습니다

 

암호화 권한 설정: 장치 운영자, 기술자, 관리자 및 제조업체별로 설정

 

신호 타워 유형: 빨강, 노랑, 초록 3색

 

 

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